2023年11月14日
新商品「DV1341」のご紹介【セラミックス事業・溶射材】
エッチング装置用に高純度イットリアを開発致しました。
長期的に見ても益々需要の見込まれる半導体ですが、その製造においては
回路パターンを基板にエッチング法で形成することが不可欠となっております。
その際、エッチング装置のチャンバー内はプラズマエロージョンに曝され、
内壁から削れた粒子が基板を汚染する懸念があります。このエロージョンを防ぐために
チャンバー内面には耐プラズマエロージョン性に優れたセラミック材料が使用されます。
高純度イットリアはその一つですが、耐性を高めるために、高い純度、緻密な被膜を作る粒度
かつ生産効率を上げるための流動性が求められます。
新たに開発したDV1341の純度は、99.99%(粉末)・99.995%(溶射後)の高純度を実現、
球状の粉末により、流動性の改善にも成功致しました。
粒度：10-30μm
粒形：球状。約80％は高密度、残り約20%は中空粉の形状となります。
お問い合わせは直接セラミック事業部へお問い合わせください。