サンゴバンのに新製品が登場しました。
シリコンと炭素で構成されたSiCは、Siに対して絶縁破壊電界強度が10倍、バンドギャップが3倍と優れており、p型、n型の制御が広い範囲で可能であるため、高温、高線量下で使用できる次世代のパワーデバイス用材料として注目されています。その一方でSiCは、地球上で3番目に硬い化合物と言われております。研削研磨加工において研磨剤の選定が、量産の効率化には非常に重要になっています。
新製品「ClasSiC2000」は砥粒レスの過マンガン酸ベースの化学溶液、「ClasSiC2100」は過マンガン酸ベースの化学溶液に自社製砥粒を配合したスラリーです。
特にSiCウェハの研磨工程において、CMP＆仕上げ研磨工程での使用に特化して開発されました。
「ClasSiC2100」で高速研磨をした後、「ClasSiC2000」で仕上げ研磨もしくは、「ClasSiC2000」のみでCMP&仕上げ研磨工程を完了する事ができます。
従来品のClasSiC102V、807の特長そのままに、研磨レートを向上させた今回のシリーズは、少ない流量で高い研磨レートを実現します。
サンゴバンが得意とする高い研磨レートの代表格の製品となっており、9psi,75ml/分の条件下での研磨レートは7μm/hourを達成しました。
また、ClasSiC専用の洗浄液「AmberClean-SCA17」も準備しております。
従来のクリーナーでは、過マンガン酸の除去、残留物の除去の2つの工程が必要でした。また、二酸化マンガンの固体化により洗浄傷の原因にもなっていました。
過マンガン酸をSCA17で洗浄する事により二酸化マンガンの固体化を防ぎ完全に溶解する事により、傷付けることなく除去する事を実現します。
サンゴバンでは砥粒、化学溶液の両方を自社で研究開発、生産までを一貫で対応しています。
製品サンプルのご依頼、詳細情報のお問い合わせは直接セラミック事業部担当へお問い合わせください。
https://www.saint-gobain.co.jp/jp/cm